歡(huān)迎(yíng)來到天津瑞坤(kūn)自(zì)動化工程有限(xiàn)公司網站(zhàn)!
當前(qián)位(wèi)置:首頁 > 產(chǎn)品(pǐn)中心(xīn) > > 其他配套(tào)產(chǎn)品(pǐn) > 人防毒劑監測(cè)儀TD-YQ001





簡要(yào)描述(shù):人(rén)防毒劑監測儀(yí)TD-YQ001綜合(hé)分(fēn)析(xī) 目(mù)前國內(nèi)外(wài)已(yǐ)裝(zhuāng)備(bèi),在研(yán)的毒劑檢(jiǎn)測儀(yí)器(qì)和(hé)各(gè) 國研(yán)製(zhì)裝(zhuāng)備(bèi)的毒劑(jì)檢(jiǎn)測儀(yí)器可(kě)看出(chū)發展物理原理(lǐ)方(fāng)法的(dí)監測儀器 ,是(shì)未(wèi)來化(huà)學(xué)戰劑檢測(cè)儀器(qì)發展的(dí)一(yī)種趨(qū)勢。此類監測(cè)儀器 由於不使(shǐ)用(yòng)試(shì)液(yè),不(bù)製樣,勤(qín)務簡(jiǎn)單(dān),利於節(jié)約(yuē)經費開支(zhī) ,更(gēng)容易(yì)適合戰場(cháng)環(huán)境(jìng)的使用條(tiáo)件(jiàn)…。
產品(pǐn)型號(hào):
廠(chǎng)商性(xìng)質:生產(chǎn)廠家(jiā)
更(gēng)新(xīn)時間:2024-05-24
訪 問 量(liáng):1640產(chǎn)品(pǐn)分類
相關(guān)文章(zhāng)
Related Articles詳(xiáng)細介紹
本(běn)文主(zhǔ)要介(jiè) 紹離(lí)子(zǐ)化檢測方法的(dí)原理(lǐ) ,發展(zhǎn)過(guò)程,裝備情(qíng)況(kuàng)和未來的發展趨(qū)勢 。
|人防毒(dú)劑(jì)監(jiān)測儀TD-YQ001
1.2離子化(huà)檢測儀器的(dí)發(fā)展(zhǎn) 在(zài)物理方法中,電(diàn)子(zǐ)俘獲法(fǎ) ,離(lí)子(zǐ)復合(hé)法(fǎ),動態(tài) 柵(zhà)法 ,離(lí)子(zǐ)遷移譜法 的檢測原理(lǐ)都是(shì)首先(xiān)將空(kōng)氣 中的(dí) 毒(dú)劑分子電(diàn)離(lí)成(chéng)為帶電離子(zǐ),然(rán)後對離子進行檢測的(dí) 方(fāng)法(fǎ) ,所 以上(shàng)述(shù)方法可以統(tǒng)稱(chēng)為離(lí)子化(huà)檢測法。 基於離子化檢測法(fǎ) 的儀器(qì),工作流(liú)程為: 樣 品氣體(tǐ)離子化過程(chéng)一離子(zǐ)選(xuǎn)擇(zé)分離過程一(yī)離(lí) 子(zǐ)接收放(fàng)大過程(chéng)一信號處(chǔ)理(lǐ)過(guò)程(chéng)。 離子化檢(jiǎn)測(cè)法(fǎ)的發展主要體現在(zài)離(lí)子(zǐ)選擇分離 和信(xìn)號處理(lǐ)兩(liǎng)個方(fāng)麵 。在離子選擇(zé)分離發展過程(chéng)中(zhōng)經 過(guò)了(liǎo)簡(jiǎn)單的電離檢(jiǎn)測(cè)法 (電子俘獲(huò)法)一單(dān)級離子(zǐ)過 濾器 (離子復(fù)合(hé)法(fǎ) ,動態(tài)柵法)一多(duō)級離(lí)子過濾器 (吸 入式(shì)離(lí)子(zǐ)遷移(yí)譜(pǔ)法)到(dào)閉合(hé)型 IMS離子(zǐ)遷(qiān)移(yí)譜(pǔ)法的(dí)四 個(gè)發展階段(duàn) 。在信號處理過(guò)程中經歷 了(liǎo)分(fēn)離元(yuán)件一集(jí) 成 電路一微(wēi)型計(jì)算(suàn)機(jī)處理器(qì)的發展階段 ,其中微型計(jì) 算(suàn)機(jī)處(chǔ)理器在(zài)離(lí) 子化檢測法儀(yí)器上(shàng)的(dí)應用(yòng)對毒(dú)劑檢(jiǎn) 測產(chǎn)生(shēng) 了革命(mìng)性 的(dí)影響。
|人防毒劑監(jiān)測儀(yí)TD-YQ001
1.3毒劑分子的(dí)離子化反應(yīng)過程 毒劑分(fēn)子(zǐ) 的離子(zǐ)化方法(fǎ) 比(bǐ)較 常(cháng)見的有(yǒu) 電(diàn)暈放(fàng) 電 法 ,光電(diàn)離法 ,放射源法 ,激光 電離(lí)法(fǎ)等,以下為(wéi)常(cháng) 見(jiàn)的放(fàng)射源法電(diàn)離過程。 樣(yàng) 品氣(qì)體(tǐ) 中的毒劑分子(zǐ)置(zhì)於(yú)有 。或 放射源 的 電離室(shì) ,載氣(qì)分子(zǐ)中的(dí) N2,0。和 H20在放(fàng)射源 的(dí)作用(yòng) 下(xià)被(bèi)電(diàn)離成反應(yīng)離子簇(cù)。使用 ∞Ni放射(shè)源 的電離反(fǎn)應(yīng) 式(shì) 為(wéi) : Ⅳ2+ H2D— (H2D)H +(日(rì)2D)N (1) Ⅳ2+ H2D+()2— (日(rì)2D)H +(/42D)NO +(H2D)D一(yī)2+(日2D)一 +P一 (2) 在 電離(lí)室(shì)中,反應離子簇(cù)與毒(dú)劑分(fēn)子(zǐ)發(fā)生分(fēn)子(zǐ)一 離(lí)子反應(yīng) ,形成產(chǎn)物(wù)離子簇 。因(yīn)為毒(dú)劑分子(zǐ)是大的極 性分子,有很(hěn)低(dī) 的(dí)電離(lí)能及較高(gāo)的(dí)電子親(qīn)和(hé)力,所(suǒ)以(yǐ) 在(zài)待檢(jiǎn)氣(qì)體(tǐ)中(zhōng)即(jí)使有(yǒu)少(shǎo)量的(dí)毒劑(jì)分(fēn)子存(cún)在 ,也能優先 與極性分(fēn)子(zǐ)反(fǎn)應(yīng) 。 設(shè)毒劑分(fēn)子(zǐ)為(wéi) M,則(zé): M +(/42D)H M (H2D)H (3) +(H2D)NO M (H2D)NO (4) M +(H2D)D一2 M (H2D)0—2 (5) M +(H2D)一 M (H2D)一(yī) (6) +e一(yī)--->M 一 (7) 在離(lí)子化檢(jiǎn)測原(yuán)理的儀器 中,離子化反應完成 後,進(jìn)行(háng)進(jìn)一(yī)步(bù)的(dí)處理。
產品咨(zī)詢
歡(huān)迎(yíng)您關注(zhù)我們的(dí)微(wēi)信(xìn)公(gōng)眾(zhòng)號了解更多信息
掃(sǎo)一掃微(wēi)信掃(sǎo)一掃(sǎo)